α 光谱法源制备的替代方法：无电沉积，无氢氟酸：已开发出一种替代电沉积或镧系元素氟化物微沉淀制备锕系 α 计数源的方法。该工艺通过镧系元素氢氧化物的微沉淀避免了有害氢氟酸的使用。它提供了一种在日常生产实验室中制备锕系元素 α 计数源的更快、更简单和更安全的方法，每天处理许多样品。
氢氟酸处理对金簇化学沉积的影响：通过简单地浸入含有金属盐和氢氟酸的溶液中，改变沉积在 (100) 硅片上的金纳米粒子 (AuNP) 的形态(HF) 在通过 HF 处理沉积之前和之后。金簇的特征是分别存在平坦区域和准球形颗粒，与逐层或岛状生长模式一致。清洁过程，包括在沉积前浸入 HF，会影响主要的金结构。浸泡10秒后存在数十纳米长的平坦区域。在 4 分钟的清洁过程后形成了三维 (3D) 簇，这导致了大量直径为 15 nm 的球形颗粒和几个纳米长度的小百分比残留正方形层。沉积后，样品也用 HF 处理，正如 TEM 和 AFM 分析所揭示的那样，我们发现平坦区域普遍增厚。该结果与在类似的 Ag 实验中观察到的聚结形成对比。这表明HF溶解了形成在薄扁平团簇顶部的氧化硅层，并由于表面能的降低而促进了层状金原子的部分原子的重排。X 射线衍射研究表明，平坦区域的晶体取向在其与衬底的初始异质外延关系的损失中部分改变。几乎 70 秒的沉积后 HF 处理与长时间高温退火的效果几乎相同。本文提供的方法可用于改变纳米颗粒阵列的光谱响应并提高混合光伏器件的转换效率。这表明HF溶解了形成在薄扁平团簇顶部的氧化硅层，并由于表面能的降低而促进了层状金原子的部分原子的重排。X 射线衍射研究表明，平坦区域的晶体取向在其与衬底的初始异质外延关系的损失中部分改变。几乎 70 秒的沉积后 HF 处理与长时间高温退火的效果几乎相同。本文提供的方法可用于改变纳米颗粒阵列的光谱响应并提高混合光伏器件的转换效率。这表明HF溶解了形成在薄扁平团簇顶部的氧化硅层，并由于表面能的降低而促进了层状金原子的部分原子的重排。X 射线衍射研究表明，平坦区域的晶体取向在其与衬底的初始异质外延关系的损失中部分改变。几乎 70 秒的沉积后 HF 处理与长时间高温退火的效果几乎相同。本文提供的方法可用于改变纳米颗粒阵列的光谱响应并提高混合光伏器件的转换效率。